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IT之家 6 月 12 日消息，台湾地区《经济日报》消息，业界传出，在英伟达增加 AI 芯片投片量带动下，台积电先进制程产能利用率近期大幅提升，5nm 产能利用率从五成多提高到七至八成左右；7nm 产能利用率也从原本仅三、四成低档，逐步拉升至五成左右。

台积电不评论产能利用率相关动态传闻。根据台积电此前披露的数据，今年首季 5nm 与 7nm 制程贡献业绩共约五成，是最主要的营收来源，随着这两大先进制程产能利用率同步提升，法人看好将对台积电后续营收有相当正面帮助。

业界人士指出，台积电 5nm 制程月产能约 13 万片，之前产能利用率估计一度降到五成多，近期开始加温，目前月投片量估算约 9 万多至 10 万多片，换算产能利用率拉升至七至八成左右，比原先市场预期的回升速度快，主要受惠于大客户英伟达因应市场需求，已对台积电加单，相关投片应该从 7 月会逐渐开出。

7nm 制程方面，台积电相关产能利用率不如 5nm，供应链认为，台积电 7nm 之前几个月产能利用率最低可能降至仅三到四成，但目前已经回到约五成左右水准。

另外，在台积电最先进的 3nm 制程方面，业界人士提到，目前最主要的大客户仍是苹果，主要生产搭载在即将推出的高阶 iPhone 15 新机的最新 A 系列处理器，其他客户可能于后续才会投片。

台积电先前表示，由于客户端对其 3nm 制程的需求超过可供应能力，预期今年 3nm 制程将满载，并从第 3 季开始贡献大量营收，N3E 制程将于下半年量产。

IT之家注意到，台积电董事长刘德音日前表示，今年因为面临产业库存调整期，该公司业绩可能呈现少许负成长，不过前景仍十分光明，已准备好迎接明年下一波很好的成长。